用途:
KSPV-1100-01稳压阀用于控制诸如半导体生产工艺中立式或卧式热氧化炉的排气压力,保持工艺腔体X压力的稳定,实现不同海拔、不同大气压力下的生产工艺的一致性。
特点:
²具有稳定精细的阀门控制结构;
²采用X压力传感器和高效的PID控制;
²真空泵系统采用文丘里效应和氮气节约装置;
²时刻监测工艺腔室的废气温度,并作为工艺腔室的控制参数。
²采用集成化设计便于安装和操作;
²显示面板可显示控制压力、阀门开合角度和废气温度。