泉州联发通金属制造有限公司
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整平酸铜电镀工艺 WK-2081 | 1、在广阔的电流密度范围内，可获得快速镜面光亮及特高整平性，并不容易产生针孔及麻点。 2、镀层延展性能良好，内应力低与镍层的结合力好，是理想的电镀层。 3、镀液温度较高时，在低电流区不会明显降低光亮度，并在较短时间内获得光亮镀层。 | 硫酸铜 硫酸 氯离子 WK-2081开缸剂 WK-2081走位剂 WK-2081走亮剂 温度 电流密度 生产维护 WK-2081开缸剂 WK-2081走位剂 WK-2081走亮剂 | 195-235g/L 50-70g/L 50-100mg/L 5ml/L 0.6ml/L 0.2ml/L 20-40℃ 1-4A/dm2 30-60ml/KAh 60-80ml/KAh 40-60ml/KAh |
