半導體行業產品清洗用超純水設備安裝主要是分離溶液中的離子范圍，它無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統的方法能耗低。用反滲透裝置，處理工業用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，它的運行費用也比較低。反滲透膜分離技術，簡稱RO技術。

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各種工藝品的精密加工，劃片刻膜，激光雕刻，電阻調節，測距以及科學研究等都有十分優異的表現，達到其他種類激光打標無法做到的效果。

超聲波清洗器具有清洗效果好、速度快、噪音低、穿透性、滲透性強、環保等優點。主要適用于高校、電子行業、科研單位、商業等的小批量清洗、乳化、脫氣、混勻、消泡及細胞粉碎。

采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水經濟，環保的超純水制備工藝

選定設備時，所需凈化空間的排風量必須和設備處理風量相符，否則達不到排風凈化環境

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