本機主要用于壓電晶體、化合物半導體、硅單晶、磁性材料、光學玻璃及光電子材料等金屬、非金屬片狀硬脆材料的高精度雙面研磨，適用于2＂（φ50mm）以下及同尺寸規格異型平行平面的四動雙面高精度研磨。

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